レーザーアブレーション装置、PLD装置

レーザーアブレーション装置PULSED LASER ABLATION　EQUIPMENT


●概要・レーザーアブレーション法とは　レーザーアブレーション法とはパルスレーザ光を固体のターゲットに照射して、　放出された原子、分子、イオンを基板上に堆積して薄膜を形成する成膜法です。・研究内容、ご使用の状況に合わせて、設計製作いたします。
●装置構成・成膜室・試料交換室・ゲートバルブ　(成膜室-試料交換室間) ・成膜室用真空計・試料交換室用真空計・成膜室用排気系・試料交換室用排気系・基板加熱駆動機構・ターゲット駆動機構・レーザー・架台		●オプション・電子銃・基板加熱駆動機構・グローブボックス・グローブボックス受渡し機構・基板温度測定用温度計・イオンポンプ ●レーザーアブレーション装置(カタログ)
●仕様成膜室　　　到達真空度：1×10^-6Pa以下　　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品試料交換室　到達真空度：1×10^-4Pa以下　　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品

〒559-0011
大阪市住之江区北加賀屋4-3-24


●概要・レーザーアブレーション法とは　レーザーアブレーション法とはパルスレーザ光を固体のターゲットに照射して、　放出された原子、分子、イオンを基板上に堆積して薄膜を形成する成膜法です。・研究内容、ご使用の状況に合わせて、設計製作いたします。
●装置構成・成膜室・試料交換室・ゲートバルブ　(成膜室-試料交換室間) ・成膜室用真空計・試料交換室用真空計・成膜室用排気系・試料交換室用排気系・基板加熱駆動機構・ターゲット駆動機構・レーザー・架台		●オプション・電子銃・基板加熱駆動機構・グローブボックス・グローブボックス受渡し機構・基板温度測定用温度計・イオンポンプ ●レーザーアブレーション装置(カタログ)
●仕様成膜室　　　到達真空度：1×10^-6Pa以下　　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品試料交換室　到達真空度：1×10^-4Pa以下　　　　　　　表面処理：電解研磨(内面鏡面研磨後) 　　　　　　　　排気系：ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ　　　　　　　　　　　　補助バルブ、排気配管部品